2018年9月底
，由沈阳拓？萍加邢薰咀灾餮性斓12英寸原子层沉积（Atomic Layer Deposition
，ALD）设备通过了客户的验收。

        ALD设备是集成电路造备过程中关键的薄膜沉积设备
，被视为先进半导体工艺技术发展的关键环节之一。糖果派对公司基于已通过出产验证的高产能PECVD设备平台
，成功研造了国内首台量产型12英寸ALD设备
，并迅速推向市场
，可利用于28nm以上极大规模集成电路
，OLED及先进封装（TSV）领域
，投入先进出产线
，用于沉积SiO2
，SiNx等绝缘薄膜。该设备已成功进入试出产线查核验证
，历时3个多月
，通过了客户的查核验收
，设备各项机能指标均满足要求
，且达到或超过了国际同类产品的先进水平
，这是我国在实现半导体设备国产化过程中的又一沉大突破。